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【
名 稱 】: 《研磨液配方制作方法 金屬研磨液生產(chǎn)加工專利技術(shù)》 |
| 【 日 期 】:
最新 |
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冊(cè) 數(shù) 】: 內(nèi)部資料 |
| 【
原 價(jià) 】:
380 |
| 【
現(xiàn) 價(jià) 】:
260 |
| 【上傳日期】:
2011年3月21日19點(diǎn)52分43秒 |
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研磨液配方制作方法 金屬研磨液生產(chǎn)加工專利技術(shù)
本套《研磨液配方制作方法 金屬研磨液生產(chǎn)加工專利技術(shù)》均為專利原版全文說明書；含詳細(xì)的材配方、加工方法、制作步驟、說明書附圖等，國家所有專利均為電子文檔。
一、專利目錄
1 02138718.4 高懸浮力水溶性防銹研磨液
2 02123007.2 金屬研磨液材、金屬研磨液、其制造方法及使用它的研磨方法
3 01122791.5 化學(xué)機(jī)械研磨漿液組合物及其使用方法
4 02145898.7 研磨液組合物
5 02105024.4 一種用于銅制程的化學(xué)機(jī)械研磨液組合物
6 01811444.X 研磨無機(jī)氧化物顆粒的漿液以及含銅表面的拋光方法
7 03112423.2 液體狀物的循環(huán)粉碎研磨裝置及其方法
8 03131434.1 化學(xué)機(jī)械研磨后洗滌液組合物
9 02105893.8 高速研磨金屬層用化學(xué)機(jī)械研磨液組成物
10 03105401.3 液晶顯示器面板的研磨裝置
咨詢QQ:372631438
11 03105403.X 制造液晶顯示器面板的具有旋轉(zhuǎn)緩沖器的研磨裝置
12 01814958.8 牙粉中使用的流體研磨劑懸浮液
13 88100930.X 研磨體浸泡在處理手指溶液中的可蓋緊的容器
14 90107909.X 獨(dú)立安裝在圓筒內(nèi)的抗淹沒排污研磨泵液位控制系統(tǒng)
15 91101388.1 在液體靜電顯影劑制備中作為研磨劑的含酸Ａ－Ｂ嵌段共聚物
16 94193464.0 一種用于含液壓軸承的研磨機(jī)的無刷主軸電機(jī)
17 97117580.2 半導(dǎo)體器件的制造方法及其中使用的研磨液
18 99111787.5 輸送基片機(jī)械拋光研磨懸浮液的設(shè)備和方法
19 00114700.5 水溶性防銹晶體研磨液
20 00102820.0 研磨漿液及其用途
21 00120783.0 無機(jī)研磨劑廢液的再生處理裝置
22 99812776.0 金屬用研磨液及研磨方法
23 99815882.8 金屬研磨液材、金屬研磨液、其制造方法及使用它的研磨方法
24 00808972.8 一種在人體皮膚組織上進(jìn)行液體微研磨的裝置
25 01143363.9 研磨液的制造裝置
26 02103456.7 鏡片研磨加工裝置的研磨液供給裝置
27 02118591.3 研磨液組合物
28 200710149086.4 研磨液組合物
29 200680008151.5 用于化學(xué)機(jī)械拋光研磨液組合物的氧化劑
30 200710140182.2 研磨液供應(yīng)裝置的氣泡抑制器
31 200710169501.2 研磨液組合物
32 200710165886.5 研磨液
33 200610118337.8 一種防止研磨液稀釋的化學(xué)機(jī)械研磨系統(tǒng)及其機(jī)臺(tái)
34 200710177815.7 水性金剛石研磨液及其制備方法和用途
35 200680018499.2 彩色濾光片研磨液組合物
36 200710166031.4 化學(xué)機(jī)械研磨漿液與化學(xué)機(jī)械平坦化方法
37 200680027344.5 使用包含鋯化合物的水溶液在水介質(zhì)中分散和/或研磨和/或濃縮碳酸鈣的方法
38 200810082982.8 研磨液組合物
39 200710084066.3 彩色濾光片研磨液組合物
40 88213999.1 高精度液體靜壓金剛石刀具研磨機(jī)
41 97206746.9 軸承鋼球的小液量研磨設(shè)備
42 01267836.8 一種研磨機(jī)本體的漿液助流裝置
43 200720108058.3 隔膜式研磨液擠壓缸
44 200720069510.X 研磨液清洗裝置
45 200720071947.7 一種改進(jìn)型化學(xué)機(jī)械研磨液容器
46 200720109232.6 一種新型的拆換式研磨機(jī)研磨液入口組件
47 200410061916.4 研磨液組合物
48 200410056230.6 磁盤用研磨液組合物
49 02826551.3 研磨液及研磨方法
50 200410078477.8 磁盤用研磨液試劑盒
51 200410092980.9 帶有用于降低漿液消耗的凹槽排列的研磨墊
52 200410092981.3 帶有用于提高漿液利用率的凹槽的研磨墊
53 200410065956.6 一種非標(biāo)尺寸有矩陣液晶顯示器及其研磨制造方法
54 200310122917.0 研磨液再利用裝置及其系統(tǒng)
55 200310113053.6 用于彩色光阻材平面化的研磨漿液
56 200310121214.6 化學(xué)機(jī)械研磨漿液及其使用方法
57 03809590.4 研磨液及研磨方法
58 200510011128.9 一種用于存儲(chǔ)器硬盤磁頭背面研磨的研磨液
59 200510023377.X 核/殼型納米粒子研磨劑拋光液組合物及其制備方法
60 03813586.8 用于從研磨的聚氨酯顆粒和多元醇液體的混合物中連續(xù)除去空氣的設(shè)備和方法
61 03812783.0 研磨液及研磨方法
62 200510055710.5 研磨用磨、研磨劑、研磨液、研磨液的制造方法、研磨方法以及半導(dǎo)體元件的制造方法
63 200510059065.4 研磨液組合物
64 200510064805.3 研磨液組合物
65 200510068160.0 金屬用研磨液及研磨方法
66 200410017580.1 半導(dǎo)體芯片化學(xué)機(jī)械研磨后清洗液
67 03152471.0 研磨液組合物
68 03152478.8 研磨液組合物
69 01819592.X 用于水性懸浮液中礦物質(zhì)研磨的助劑、所形成的水性懸浮液及其用途
70 01819593.8 用于水性懸浮液中礦物質(zhì)研磨和/或分散的助劑,所形成的水性懸浮液及其用途
71 03155318.4 研磨液組合物
72 03158608.2 含有被埋入的液態(tài)微量成分的研磨墊及其制造方法
73 03127287.8 研磨液組合物
74 02145989.4 化學(xué)機(jī)械研磨漿液組合物及其使用方法
75 200310103880.7 測量液晶顯示面板研磨量的設(shè)備和方法
76 200310120369.8 研磨液組合物
77 200310124681.4 研磨液組合物
78 200410004018.5 研磨液組合物
咨詢QQ:372631438
79 200310124748.4 研磨液組合物
80 200310124746.5 研磨液組合物
81 200310110367.0 液晶面板表面的研磨裝置及研磨方法
82 03800709.6 拋光方法及研磨液
83 02806168.3 鈰類研磨材及研磨材漿液和鈰類研磨材的制造方法
84 02816872.0 液晶聚合物的研磨
85 200510076332.9 研磨液組合物
86 200380104672.7 研磨礦物質(zhì)的低離子負(fù)載水懸浮液及其用途
87 200410054780.4 一種不銹鋼表面快速化學(xué)研磨拋光浴液及方法
88 200510085991.9 研磨液組合物
89 200510125376.6 研磨液組合物
90 200510125382.1 半導(dǎo)體基板用研磨液組合物
91 200480012569.4 CMP方法用研磨液及研磨方法
92 03826622.9 金屬用研磨液以及研磨方法
93 200510129495.9 玻璃基板用研磨液組合物
94 200610000318.5 金屬研磨液材、金屬研磨液、其制造方法及使用它的研磨方法
95 200510055834.3 化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺(tái)的研磨液供應(yīng)設(shè)備與研磨液混合方法
96 200610013973.4 半導(dǎo)體硅晶片水基研磨液
97 200610013977.2 用于鈮酸鋰光學(xué)晶片研磨拋光的拋光液
98 200610013978.7 用于微晶玻璃研磨拋光的拋光液
99 200480031189.5 液狀組合物、其制造方法、低介電常數(shù)膜、研磨及電子部件
100 200610014602.8 硅片研磨液
101 200510132175.9 液晶顯示設(shè)備用研磨機(jī)輪和用其制造液晶顯示設(shè)備的方法
102 200610088503.4 CMP用研磨液及其制備方法以及基板的研磨方法
103 200510092805.4 制造輕薄型液晶顯示元件的液晶單元的研磨方法及其裝置
104 200580004190.3 相互研磨水泥用液體添加劑
105 200610115095.7 用于鋼絲鋸割的方法、設(shè)備和研磨液
106 200610108436.8 研磨液組合物
107 200580010955.4 金屬用研磨液以及使用該研磨液的研磨方法
108 200610141662.6 半導(dǎo)體基板用研磨液組合物
109 200610137146.6 金屬用研磨液及研磨方法
110 200580023474.7 在增稠劑存在下研磨礦物材的方法，獲得的含水懸浮液及其用途
111 200580023543.4 在粘結(jié)劑存在下研磨礦物材的方法，獲得的含水懸浮液及其用途
112 200610169045.7 玻璃基板用研磨液組合物
113 200610163754.4 硬盤基板用研磨液組合物
114 200710084237.2 用于監(jiān)控研磨機(jī)冷卻液噴嘴設(shè)定的方法
115 200710095820.3 研磨液及研磨方法
116 200710107442.6 研磨液及研磨方法
117 200710107443.0 研磨液及研磨方法
118 200710092278.6 蝕刻液組合物、研磨用組合物及其制造方法以及研磨方法
119 200710088779.7 金屬用研磨液
120 200610039713.4 軸承鋼球的小液量研磨設(shè)備
121 200710099943.4 金屬鉭及其合金專用研磨液及其制備方法
122 200710104636.0 金屬用研磨液以及研磨方法
123 200710104637.5 金屬用研磨液以及研磨方法
124 200710107753.2 研磨液及研磨方法
125 200710101113.0 磁盤基板用研磨液組合物
126 200580040252.6 化學(xué)機(jī)械研磨方法與研磨液組合物
127 200610014418.3 一種用于硅晶片的研磨液
128 200580036187.X 用于化學(xué)機(jī)械拋光的系統(tǒng)、方法與研磨液
129 200610014598.5 陶瓷研磨液
130 200710127194.1 玻璃基板用研磨液組合物
131 200680002376.X 化學(xué)機(jī)械研磨系統(tǒng)及研磨液
132 200610029510.7 化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺(tái)中研磨液及去離子水輸送管的配置方法
133 200610029775.7 一種化學(xué)機(jī)械研磨機(jī)臺(tái)化學(xué)液供給裝置
134 200810011077.3 計(jì)算機(jī)硬盤基板研磨用清洗液
135 200810086778.3 研磨液
136 200680037661.5 CMP用研磨液及研磨方法
137 200680042016.2 氧化硅用研磨劑、添加液以及研磨方法
138 200680043100.6 鋁膜研磨用研磨液及使用其的鋁膜研磨方法
139 200810212485.5 金屬用研磨液以及使用該研磨液的研磨方法
140 200680049346.4 不含磨的研磨液及CMP研磨方法
141 200680049417.0 金屬用研磨液以及被研磨膜的研磨方法
142 200680050126.3 共研磨劑在共研磨的天然和沉淀碳酸鈣的生產(chǎn)方法中的用途、所得懸浮液和干顏以及它們的用途
143 200710044347.6 流體流速穩(wěn)定裝置及研磨液供給裝置
144 200810173817.3 硬盤基板用研磨液組合物
145 200810229559.6 液體研磨劑及其制備方法
146 200780014892.9 CMP用研磨液及研磨方法
147 200810186929.2 金屬用研磨液及研磨方法
148 200710171516.2 用于加工電液伺服閥的閥套內(nèi)孔的研磨棒
149 200710171549.7 用于電液伺服閥銜鐵組件的研磨加工裝夾工具
150 200710094394.1 提高化學(xué)機(jī)械拋光研磨液使用率的系統(tǒng)及方法
151 200710094423.4 化學(xué)機(jī)械拋光研磨液的供裝置及研磨液處理方法
152 200710094564.6 研磨液供給管路以及化學(xué)機(jī)械研磨裝置
153 200710094547.2 研磨液及化學(xué)機(jī)械研磨方法
154 200810190550.9 一種研磨顆粒及其制造方法和化學(xué)機(jī)械研磨液的制造方法
155 200780025341.2 CMP用研磨液及研磨方法
156 200780024845.2 CMP用研磨液
157 200780030091.1 從研磨劑漿廢液中回收研磨劑的方法及裝置
158 200780029577.3 礦物質(zhì)的水分散體和懸浮液用的分散劑和/或研磨助劑、所得分散體和懸浮液及其用途
159 200780033479.7 CMP研磨劑、CMP研磨劑用添加液以及使用了這些的基板的研磨方法
160 200910203503.8 氧化硅用研磨劑、添加液以及研磨方法
161 200780047959.9 研磨液組合物
162 200880005185.8 金屬用研磨液以及研磨方法
163 200880006201.5 硅膜用CMP研磨液
164 200810041771.X 一種用于化學(xué)機(jī)械研磨的拋光液
165 200910044264.6 一種氧化鋯研磨液的生產(chǎn)工藝
166 200880015729.9 使用具有丙烯酸類單體的丙烯酰胺聚合物的反相乳液在水性介質(zhì)中研磨礦物材及黏結(jié)劑的方法
167 200880011656.6 用于磨機(jī)的研磨液返回系統(tǒng)
168 200880023332.4 金屬膜用研磨液及研磨方法
169 200910226425.3 用于在鋼絲鋸中使用的研磨液
170 200810201826.9 化學(xué)機(jī)械研磨方法、研磨液噴嘴及化學(xué)機(jī)械研磨設(shè)備
171 200910227722.X 用于鋼球研磨的乳化型精研液配制使用方法
172 200910163900.7 研磨液供給系統(tǒng)及化學(xué)機(jī)械研磨站的研磨液混合物供給法
173 201010162870.0 高精密非水基納米級(jí)金剛石研磨液、制備方法及用途
174 200910001035.6 研磨片清洗液
175 201010147776.8 樹脂砂輪研磨液過濾裝置
176 200420080303.0 液壓鋼珠研磨機(jī)
177 200620158773.3 磨拋機(jī)自動(dòng)滴研磨液裝置
178 200720005819.2 研磨盤刷供液體機(jī)構(gòu)
179 200820117253.7 一種超聲波液壓回油研磨機(jī)
180 200820119376.4 混懸液研磨制備裝置
181 200920095652.2 數(shù)控弧齒錐齒輪研齒機(jī)研磨液裝置
182 200920064305.3 平面磨床研磨液注入裝置
183 200920069928.X 等壓液體研磨超精加工液壓馬達(dá)柱塞的裝置
184 200920072553.2 簡易式研磨液供應(yīng)系統(tǒng)
185 200920208274.4 研磨液傳輸裝置
186 200920232185.3 一種晶片研磨砂液配制裝置
187 200920251733.7 數(shù)控弧齒錐齒輪研齒機(jī)研磨液供給裝置
188 200920175280.4 一種研磨拋光機(jī)用供液裝置
189 201020110014.6 液壓三輥研磨機(jī)輥間隙調(diào)節(jié)裝置
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| 研磨液配方制作方法 金屬研磨液生產(chǎn)加工專利技術(shù) |
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