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【
名 稱 】: 《氧化釔制造方法,氧化釔加工生產(chǎn)工藝專利技術》 |
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最新 |
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冊 數(shù) 】: 內(nèi)部資料 |
| 【
原 價 】:
380 |
| 【
現(xiàn) 價 】:
260 |
| 【上傳日期】:
2011年3月21日17點33分27秒 |
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氧化釔制造方法,氧化釔加工生產(chǎn)工藝專利技術
本套《氧化釔制造方法,氧化釔加工生產(chǎn)工藝專利技術》均為專利原版全文說明書；含詳細的材配方、加工方法、制作步驟、說明書附圖等，國家所有專利均為電子文檔。
一、專利目錄
1 01129722.0 納米氧化釔粉體的制造方法
2 02113173.2 納米氧化釔的制備方法
3 95111862.5 超高純氧化釔的制造方法
4 95195317.6 具有由氧化釔分隔的磁光膜層的磁光記錄介質(zhì)
5 85100510 含有氧化釔、_氧化鑭和氧化鋁的氮化硅陶瓷及制造方法
6 87107819 蒸鍍用的氧化釔組成物及反射防止膜的制造方法
7 87106846.X 氧化釔的分餾萃取法
8 89103773.X 獲得高純氧化釔和氧化鑭的方法
9 89103569.9 用氧化釔穩(wěn)定氧化鋯的亞微細粒粉末的制備方法
咨詢QQ:372631438
10 92101172.5 采用氫氧化物共沉淀法制備氧化釔－氧化釓陶瓷閃爍體的方法
11 92106002.5 一種制取熒光級氧化釔的方法
12 93118542.4 一種制備高純氧化釔的方法
13 94103126.8 一種制備氧化釔摻雜的氧化鋯陶瓷微濾膜的溶膠凝膠法
14 97106371.0 大比表面積、超細氧化釔的制備方法
15 99112870.2 一種陽極負載型氧化釔穩(wěn)定氧化鋯固體電解質(zhì)及其制備
16 02111146.4 氧化鎂和氧化釔共穩(wěn)的四方氧化鋯多晶陶瓷及制備方法
17 01108143.0 納米氧化釔的制備方法
18 02110868.4 納米氧化釔穩(wěn)定的四方相氧化鋯多晶材的低溫燒結方法
19 200710165634.2 用氧化釔作為穩(wěn)定劑的四方多晶氧化鋯陶瓷的低溫燒結制備方法
20 200710150202.4 一種含氧化釔的噴涂粉末及其制備方法
21 200680024762.9 氧化釔燒結體和耐腐蝕性部件、其制造方法
22 200810101789.4 氧化釔摻雜氧化鑭坩堝及其采用熱壓燒結制坩堝的方法
23 200810101790.7 氧化釔摻雜氧化釹坩堝及其采用熱壓燒結制坩堝的方法
24 200810101791.1 氧化釔摻雜氟化鋰坩堝及其采用熱壓燒結制坩堝的方法
25 200810101793.0 氧化釔摻雜氧化鋯坩堝及其采用熱壓燒結制坩堝的方法
26 200810073501.7 從氧化釔穩(wěn)定氧化鋯固熔體廢物中回收氧化鋯及氧化釔的方法
27 200410010737.8 溶劑萃取分離高純氧化釔工藝
28 200410025548.8 氧化釹和氧化釔共穩(wěn)定的四方氧化鋯多晶陶瓷及制備方法
29 200410025311.X 一種氧化釔基透明陶瓷材的制備方法
30 200410097794.4 納米氧化釔穩(wěn)定氧化鋯材的微波水熱合成方法
咨詢QQ:372631438
31 200410044156.6 一種陽極支撐型氧化釔穩(wěn)定氧化鋯電解質(zhì)膜的制備方法
32 03815023.9 等離子體反應器的產(chǎn)量增進熱噴涂含氧化釔涂層
33 01821557.2 半導體工藝設備的氮化硼/氧化釔復合材部件及其制造方法
34 02159145.8 雙層減反射膜氧化鈦/氧化釔退膜方法
35 03129648.3 一種稀土摻雜的納米級氧化釔基發(fā)光粉體的制備方法
36 200610024361.5 氧化鐿和氧化釔共穩(wěn)定的氧化鋯陶瓷材及制備方法
37 200510025618.4 以氧化釔為基質(zhì)的納米級上轉換發(fā)光材及其制備方法
38 200510026560.5 氧化釔穩(wěn)定氧化鋯真空鍍膜材及其制備方法
39 200510010327.8 氧化釔穩(wěn)定氧化鋯電解質(zhì)薄膜的絲印刷制備方法
40 200510010469.4 制備氧化釔穩(wěn)定氧化鋯電解質(zhì)薄膜的方法
41 200510126271.2 一種去除附著于氧化釔零件表面聚合物薄膜的清洗方法
42 200510044104.3 氧化釔透明透波薄壁陶瓷管制備方法
43 200510044105.8 氧化釔透明陶瓷基片制備方法及軋膜成型機
44 200480040756.3 半導體材加工設備中的氧化釔涂覆的陶瓷部件及該部件的制造方法
45 200480040691.2 氧化鋁-氧化釔顆粒及其制備方法
46 200610115778.2 氧化釔燒結體及其制造方法
47 200610096284.4 高純氧化釔銪的制備方法
48 200610161270.6 從摻釔立方相氧化鋯粉末中制備氧化鋯及氧化釔的方法
49 200710027240.0 超細粒氧化釔的生產(chǎn)方法
50 200710055560.7 表面具有微-納結構的超疏水氧化釔粉末材及制備方法
51 200710091684.0 氧化鐿和氧化釔共穩(wěn)定的氧化鋯陶瓷材及制備方法
52 200580028834.2 用于等離子室內(nèi)的氧化釔絕緣體環(huán)
53 200610024966.4 一種氧化釔/二氧化鈦納米復合材及其制備方法
54 200710100869.3 氧化釔組合物及其制備方法以及利用該組合物形成氧化釔層的方法
55 200710118139.6 氧化釔穩(wěn)定氧化鋯陶瓷熱障涂層、制備工藝及其材和生產(chǎn)方法
56 200710118555.6 制備納米晶和非晶復合結構氧化釔穩(wěn)定氧化鋯球形粉方法
57 200710035342.7 從含鋯固體廢物中回收氧化鋯及氧化釔的方法
58 200810010900.9 一種微乳液法制備氧化釔、釓、銪納米發(fā)光粉體的方法
59 200810015834.4 高純度電熔氧化釔砂的生產(chǎn)方法
60 200810095159.0 氧化釔材、半導體制造裝置用構件及氧化釔材的制造方法
61 200810105497.8 氧化釔透明陶瓷的制備方法
62 200710039332.0 釔鋁石榴石和氧化釔雙晶相透明陶瓷及其制備方法
63 200710041349.X 氧化鈰/氧化釔復合氧化鋯納米粉體及其生產(chǎn)方法
64 200810013434.X 單晶澆鑄用氧化釔陶瓷型芯材及其成型制備方法
65 200710009445.6 一種新型的1.54μm波段稀土離子激活氧化釔激光透明陶瓷
66 200710009443.7 一種新型的1.54μm波段稀土離子激活氧化釔激光晶體
67 200710121460.X 一種大粒度、大比表面積球形氧化釔的制備方法
68 200810021808.2 氧化鋯氧化釔彌散強化鈀金合金及其生產(chǎn)方法
69 200710170111.7 氧化鋯-二氧化鈰-氧化釔基混合氧化物及其制備方法
70 200810238854.8 醋酸鋯粘結氧化釔模殼及其制備方法
71 200810232745.5 一種氧化釔釓銪紅色熒光粉的制備方法
72 200910010094.X 一種制備高性能氧化釔材的方法
73 200910095459.3 一種摻鋱氧化釔綠光發(fā)光薄膜及其制備方法
74 200910095416.5 一種氧化釔薄膜及其制備方法
75 200910007179.2 氧化釔材、半導體制造裝置用部件及氧化釔材的制造方法
76 200910038740.3 一種含氧化釔的鎢合金材及其制備方法
77 200910098779.4 一種摻鋱氧化釔綠光發(fā)光粉末的制備方法
78 200880002182.9 延長作為等離子室材的氧化釔的壽命
79 200910095460.6 一種摻銪氧化釔紅光發(fā)光薄膜及其制備方法
80 200880001443.5 基于氧化釔的耐火組合物
81 200910056666.8 一種氧化釔納米纖維及其制備方法
82 200810012286.X 一種制備致密氧化釔陶瓷的方法
83 200910042062.8 一種乳液聚合法表面改性納米氧化釔的制備方法及其應用
84 200910055338.6 摻鋯氧化釔基透明陶瓷及其制備方法
85 200910217730.6 摻銪氧化釔@二氧化硅豆角狀納米電纜的制備方法
86 200910198283.4 一種氧化釔基透明陶瓷的燒結方法
87 200910198284.9 一種組成和結構可設計的氧化釔基透明陶瓷的制備方法
88 200910198286.8 一種球形、單分散單尺寸氧化釔納米粉體的制備方法
89 200910199279.X 一種氧化釔穩(wěn)定氧化鋯粉體的制備方法
90 200810224309.3 一種中空球形納米結構氧化釔穩(wěn)定氧化鋯粉末的制備方法
91 201010109160.1 一種電熔氧化釔穩(wěn)定氧化鋯造粒粉的生產(chǎn)方法
92 201010133883.5 一種稀土摻雜氧化釔熒光納米纖維及其制備方法
93 200820114722.X 高靈敏度氧化釔銥金燈絲氦質(zhì)譜檢漏儀
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