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【 名 稱 】: 《等離子體處理設(shè)備裝置生產(chǎn)技術(shù)制造工藝》
【 日 期 】: 2011
【 冊(cè) 數(shù) 】: 全套
【 原 價(jià) 】:  280  
【 現(xiàn) 價(jià) 】: 260  
【上傳日期】: 2011年7月31日21點(diǎn)3分24秒  

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01、等離子體處理裝置
02、等離子體處理裝置和等離子體處理方法以及存儲(chǔ)介質(zhì)
03、通過分配多個(gè)VHF源中功率改善晶圓上等離子體處理均勻性
04、等離子體處理裝置和等離子體處理方法
05、用于等離子體處理腔的元件的石英表面的濕清潔方法
06、等離子體氮化處理方法、半導(dǎo)體裝置的制造方法和等離子體處理裝置
07、等離子體處理設(shè)備
08、用于等離子體處理塑料組件的系統(tǒng)
09、等離子體處理裝置
10、微波等離子體處理裝置
11、保護(hù)在適于在等離子體處理系統(tǒng)中使用的基片支撐件中的粘結(jié)層的方法
12、離子源和等離子體處理裝置
13、基板保持機(jī)構(gòu)和等離子體處理裝置
14、注射型等離子體處理設(shè)備和方法
15、等離子體處理裝置
16、用于等離子體處理設(shè)備的等離子體增強(qiáng)器
17、等離子體處理裝置
18、化纖面料常壓等離子體處理方法
19、聚焦環(huán)和等離子體處理裝置
20、等離子體處理設(shè)備
21、等離子體處理方法
22、微波等離子體處理裝置、其制造及使用方法、一體型槽形成部件
23、微波等離子體處理裝置、電介質(zhì)窗制造方法和微波等離子體處理方法
24、氧化硅膜的制造方法、其控制程序、存儲(chǔ)介質(zhì)和等離子體處理裝置
25、等離子體處理方法和系統(tǒng)
26、等離子體處理裝置和可變阻抗裝置的校正方法
27、等離子體處理裝置及其運(yùn)轉(zhuǎn)處理方法和電子裝置制造方法
28、聚焦環(huán)和等離子體處理裝置
29、等離子體處理系統(tǒng)中確定清潔或調(diào)節(jié)處理終點(diǎn)的方法和裝置
30、等離子體處理裝置和等離子體處理方法以及存儲(chǔ)介質(zhì)
31、用于維護(hù)具有機(jī)器人的等離子體處理系統(tǒng)的裝置
32、載置裝置、等離子體處理裝置和等離子體處理方法
33、具有接地構(gòu)件完整性指示器的等離子體處理室及其使用方法
34、氣態(tài)流出物的常壓等離子體處理
35、電感耦合等離子體處理裝置和等離子體處理方法
36、用于調(diào)整一組等離子體處理步驟的方法和裝置
37、低溫等離子體處理裝置
38、橡膠組合物、等離子體處理裝置用密封材料
39、選擇性等離子體處理方法
40、等離子體處理裝置及其所使用的電極
41、用于等離子體處理系統(tǒng)中控制多區(qū)噴嘴的耐腐蝕設(shè)備
42、測(cè)量自偏壓來監(jiān)控等離子體處理系統(tǒng)中處理的方法和裝置
43、通過測(cè)量阻抗監(jiān)控等離子體處理系統(tǒng)中處理的方法和裝置
44、測(cè)量等離子體頻率監(jiān)控等離子體處理系統(tǒng)中處理的方法和裝置
45、等離子體處理裝置和等離子體處理方法
46、表面波激發(fā)等離子體產(chǎn)生裝置以及表面波激發(fā)等離子體處理裝置
47、等離子體處理方法
48、大氣壓等離子體處理纖維束或纖維線繩表面裝置及方法
49、表面波激發(fā)等離子體處理裝置
50、用于等離子體處理的方法
51、從用于等離子體處理設(shè)備的硅和碳化硅電極表面除去黑硅和黑碳化硅的方法
52、處理氣體導(dǎo)入機(jī)構(gòu)和等離子體處理裝置
53、等離子體處理和將粘結(jié)劑/密封劑分配到部件的設(shè)備和方法
54、顏料墨水?dāng)?shù)字噴墨印花用織物的低溫等離子體處理工藝
55、一種用于織物后整理的常壓等離子體處理方法
56、等離子體處理設(shè)備，用于其電極構(gòu)件及電極構(gòu)件制造和重復(fù)利用方法
57、等離子體處理裝置用的載置臺(tái)以及等離子體處理裝置
58、等離子體處理裝置以及氣體通過板
59、感性耦合的等離子體處理系統(tǒng)
60、用多縫隙天線的表面波等離子體處理裝置
61、等離子體處理器線圈
62、等離子體處理裝置
63、等離子體蝕刻方法和等離子體處理裝置
64、等離子體處理法、等離子體蝕刻法、固體攝像元件的制法
65、聚焦環(huán)和等離子體處理裝置
66、高頻電源及其控制方法、和等離子體處理裝置
67、顆粒除去裝置和顆粒除去方法及等離子體處理裝置
68、防止微粒附著裝置和等離子體處理裝置
69、真空等離子體處理器及其操作方法
70、靜電吸附裝置、等離子體處理裝置及等離子體處理方法
71、一種減少通孔側(cè)壁上MOCVD TiN膜厚的等離子體處理工藝
72、用于產(chǎn)生等離子體的天線和包括其的等離子體處理裝置
73、窗型探針、等離子體監(jiān)視裝置及等離子體處理裝置
74、等離子體處理裝置及其隔板
75、微波激勵(lì)的等離子體處理設(shè)備
76、等離子體處理裝置及半導(dǎo)體制造裝置
77、等離子體處理方法和老化結(jié)束檢測(cè)方法以及等離子體處理裝置
78、等離子體處理裝置用電極及等離子體處理裝置
79、等離子體產(chǎn)生設(shè)備及等離子體處理設(shè)備
80、用于最小化等離子體處理室內(nèi)的電弧的裝置和方法
81、等離子體處理設(shè)備和等離子體產(chǎn)生方法
82、電極同時(shí)響應(yīng)于多頻的等離子體處理器
83、低溫等離子體處理工業(yè)廢氣中H2S和C2S的方法
84、磁控等離子體處理裝置
85、等離子體處理設(shè)備以及設(shè)計(jì)等離子體處理設(shè)備的方法
86、等離子體處理系統(tǒng)中的整合階梯式統(tǒng)計(jì)過程控制
87、電極同時(shí)響應(yīng)于多頻的等離子體處理器
88、用于等離子體處理系統(tǒng)中的改進(jìn)的折流板的方法和設(shè)備
89、等離子體處理室中的邊緣環(huán)磨損的補(bǔ)償?shù)姆椒ê脱b置
90、一種利用高頻等離子體處理固體有機(jī)廢棄物的方法
91、用于創(chuàng)建等離子體處理系統(tǒng)的數(shù)學(xué)模型的方法和陣列
92、用于檢查等離子體處理系統(tǒng)中接觸孔的方法和裝置
93、等離子體處理的金屬化膜
94、采用具有等離子體處理系統(tǒng)的光學(xué)系統(tǒng)的裝置和方法
95、等離子體處理裝置和可變阻抗裝置的校正方法
96、感應(yīng)耦合等離子體處理裝置
97、等離子體處理容器的再生方法、等離子體處理容器內(nèi)部部件、等離子體處理容器內(nèi)部部件的制造方法以及等離子體......
98、一種冷等離子體處理方法
99、具有局部有效電感等離子體耦合的等離子體處理系統(tǒng)
100、等離子體處理室
101、用于等離子體處理中故障識(shí)別的方法
102、一種抗反射膜SiON表面CH4等離子體處理方法
103、抗反射膜SiON表面氫等離子體處理方法
104、一種用于纖維表面改性的常壓低溫等離子體處理裝置
105、具有甚高頻并聯(lián)諧振天線的等離子體處理設(shè)備
106、等離子體處理裝置及其所使用的電極

等離子體處理設(shè)備裝置生產(chǎn)技術(shù)制造工藝
等離子體處理設(shè)備裝置生產(chǎn)技術(shù)
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