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【 名 稱 】: 《多晶硅制備方法|制備工藝》
【 日 期 】: 最新
【 冊 數(shù) 】: 內(nèi)部資料
【 原 價 】:  380  
【 現(xiàn) 價 】: 260  
【上傳日期】: 2011年5月5日11點34分53秒  

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內(nèi)容目錄介紹：
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01、一種太陽能電池用高純多晶硅的制備和裝置
02、一種制備太陽能級多晶硅的
03、形成多晶硅薄膜的及用該制造薄膜晶體管的
04、用于多晶硅低溫結(jié)晶化的金屬催化劑摻雜裝置及通過該裝置進行摻雜的
05、一種生產(chǎn)多晶硅用的還原爐
06、多晶硅的制造
07、多晶硅柵極摻雜
08、一種多晶硅生產(chǎn)過程中的副產(chǎn)物的綜合利用
09、激光薄膜多晶硅退火光學(xué)系統(tǒng)
10、激光薄膜多晶硅退火系統(tǒng)
11、用于連續(xù)橫向固化技術(shù)的掩膜及用其形成多晶硅層的
12、具有低摻雜漏極結(jié)構(gòu)的低溫多晶硅薄膜晶體管的制造
13、用于在襯底上淀積多晶硅層的裝置
14、高壓水氣退火的多晶硅薄膜晶體管組件的制作
15、鑄模及其形成和采用此鑄模的多晶硅基板的制造
16、一種多晶硅刻蝕工藝中的顆�？刂�
17、一種能夠消除殘氣影響的多晶硅刻蝕工藝
18、一種提高各向異性的多晶硅脈沖刻蝕工藝
19、一種減少顆粒產(chǎn)生的多晶硅柵極刻蝕工藝
20、一種能夠止器件等離子體損傷的多晶硅刻蝕工藝
21、具有平坦表面的多晶硅薄膜及其制造
22、多晶硅絕緣層多晶硅電容和高阻多晶硅器件及制作
23、用于沉積多晶硅的CVD裝置
24、一種多晶硅刻蝕中的干法清洗工藝
25、多晶硅薄膜制造和具有其的薄膜晶體管的制造
26、一種去除多晶硅刻蝕工藝中殘留聚合物的
27、一種止多晶硅刻蝕中器件等離子損傷的刻蝕工藝
28、雙膽堿和三膽堿在涂石英多晶硅和其它材料清潔中的用法
29、限定多晶硅圖案的
30、激光退火多晶硅薄膜晶體管柵絕緣層的制備
31、用于多晶硅制作的輔助激光結(jié)晶的
32、形成多晶硅薄膜的，包含多晶硅薄膜的薄膜晶體管及其制造
33、浸沾法金屬誘導(dǎo)碟形晶疇多晶硅薄膜材料及制備和應(yīng)用
34、溶液法金屬誘導(dǎo)晶化大晶粒多晶硅薄膜材料及制備和應(yīng)用
35、硅薄膜退火和由該制造的多晶硅薄膜
36、薄膜晶體管與多晶硅層的制造
37、具有多晶硅浮動隔離層的鏡像存儲單元晶體管對
38、激光輻射和形成多晶硅薄膜的裝置
39、有機發(fā)光二極管顯示面板及其多晶硅通道層的形成
40、具有單層多晶硅的鏡像非易失性存儲器單元晶體管對
41、單層多晶硅電可擦可編程只讀存儲器
42、一種改善線條粗糙度的多晶硅刻蝕
43、形成多晶硅結(jié)構(gòu)
44、在半導(dǎo)體裝置中形成多晶硅層的
45、制備多晶硅薄膜的以及用其制備半導(dǎo)體器件的
46、低溫多晶硅薄膜晶體管及其通道層的制造
47、低溫多晶硅薄膜晶體管全集成有源選址基板及制備
48、一種制備多晶硅的
49、形成具有粗糙表面的多晶硅的
50、彩色多晶硅微粒及其制備
51、一種用于制備多晶硅絨面的酸腐蝕溶液及其使用
52、多晶硅薄膜殘余應(yīng)變的在線檢測結(jié)構(gòu)及檢測
53、一種抑制多晶硅針孔的多晶硅層緩沖局部場氧化硅結(jié)構(gòu)工藝
54、以連續(xù)式側(cè)向固化法形成多晶硅膜的及其光罩圖案
55、多晶硅的生產(chǎn)裝置
56、形成具高電阻值的多晶硅薄膜的
57、利用雙鑲嵌工藝來制造T型多晶硅柵極的
58、一種納米線寬多晶硅柵刻蝕掩膜圖形的形成
59、1550納米線寬多晶硅柵的刻蝕
60、應(yīng)用于高效能薄膜晶體管的多晶硅退火結(jié)構(gòu)及其
61、形成多晶硅的和在硅基材料中的MOSFET器件
62、多晶硅膜的形成
63、制造多晶硅薄膜的及用其制造晶體管的
64、多晶硅薄膜晶體管的多晶硅膜的形成
65、制造多晶硅薄膜的和使用該多晶硅的薄膜晶體管
66、無粉塵且無微孔的高純度粒狀多晶硅
67、形成多晶硅鍺層的
68、多晶硅化金屬柵極結(jié)構(gòu)及其制造
69、低溫多晶硅薄膜電晶體基板及其制作
70、制作低溫多晶硅薄膜的
71、一種制備多晶硅絨面的
72、減小微溝道效應(yīng)的多晶硅刻蝕工藝
73、用場效應(yīng)管和雙極基極多晶硅層制造多晶硅電容器的
74、測量多晶硅薄膜熱膨脹系數(shù)的測量結(jié)構(gòu)及其測量
75、超小粒徑多晶硅的結(jié)構(gòu)和
76、光罩與應(yīng)用其形成多晶硅層的
77、低溫多晶硅薄膜的制造
78、多晶硅層的結(jié)晶
79、多晶硅薄膜的制造
80、低溫多晶硅薄膜晶體管的制造
81、多晶硅的制作和使用多晶硅的開關(guān)器件
82、制造多晶硅層的 153 200410062489.1 提高深亞微米多晶硅柵刻蝕均勻性的
83、形成多晶硅層及多晶硅薄膜晶體管的
84、基于電感耦合等離子體刻蝕多晶硅及制備超細線條的
85、將非晶硅轉(zhuǎn)換為多晶硅的
86、利用準(zhǔn)分子激光再結(jié)晶工藝來制作多晶硅薄膜的
87、多晶硅氫還原爐
88、薄膜晶體管的多晶硅制造
89、于基板上形成多晶硅層的
90、半導(dǎo)體電路制造的多層多晶硅瓦片結(jié)構(gòu)
91、用于增加多晶硅熔化速率的間歇式加料技術(shù)
92、用于結(jié)晶多晶硅的掩膜及利用該掩膜形成薄膜晶體管的
93、利用準(zhǔn)分子激光退火工藝制作多晶硅薄膜的
94、多晶硅薄膜的晶粒尺寸的控制及其檢測
95、一種四氯化硅、多晶硅和石英玻璃的聯(lián)合制備法
96、低溫多晶硅薄膜的制造及低溫多晶硅薄膜晶體管
97、制備多晶硅的
98、一種在陶瓷襯底上沉積大晶粒多晶硅薄膜的
99、多晶硅的定向生長
100、多晶硅、其生產(chǎn)及生產(chǎn)裝置
101、多晶硅層的制作
102、由多晶硅裝料制備熔化的硅熔體的和裝置
103、利用放熱反應(yīng)制備多晶硅的
104、制備多晶硅顆粒的和裝置
105、多晶硅化學(xué)氣相沉積和裝置
106、多晶硅棒及其制造
107、低溫多晶硅有機電激發(fā)光裝置的制法
108、多晶硅膜的制造
109、用三氯氫硅和四氯化硅混合源生產(chǎn)多晶硅的
110、在半導(dǎo)體制作過程中通過氘以形成多晶硅層的
111、多晶硅棒及其加工
112、多晶硅間介電層的制造



多晶硅制備方法|制備工藝
多晶硅制備方法|制備工藝
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